溅射镀膜氮化硼：磁控溅射氮化硼？

摘要： 今天给各位分享溅射镀膜氮化硼的知识，其中也会对磁控溅射氮化硼进行解释，如果能碰巧解决你现在面临的问题，别忘了关注本站，现在开始吧！本文目录一览：1、氮化硼涂布技术2、...

今天给各位分享溅射镀膜氮化硼的知识，其中也会对磁控溅射氮化硼进行解释，如果能碰巧解决你现在面临的问题，别忘了关注本站，现在开始吧！

本文目录一览：

• 1、氮化硼涂布技术
• 2、蒸发镀膜可以采用的蒸发源有哪些类型?
• 3、真空镀膜的前处理流程是怎样的,谢谢

氮化硼涂布技术

1、化妆品用于口红的填料，无毒又有润滑性，又有光泽。压制成各种形状的氮化硼制品，可用做高温、高压、绝缘、散热部件。也可以做航天航空中的热屏蔽材料。

2、氮化硼参数 高耐热性：3000℃升华，其强度1800℃为室温的2倍，1500℃空冷至室温数十次不破裂，在惰性气体中2800℃不软化。高导热系数：热压制品为33W/M.K和纯铁一样，在530℃以上是陶瓷材料中导热最大的材料。

3、六方氮化硼是一种白色松散粉末，与石墨性质相似，有“白色石墨”之称。

4、碳热合成技术该方法是在碳化硅表面上，以硼酸为原料的，碳为还原剂，氨气氮化得到氮化硼的方法，所得产物纯度很高，对于复合材料的制备具有很大的应用价值。离子束溅射技术利用粒子束溅射沉积技术，得到立方氮化硼和六方氮化硼的混合产物。

5、氮化硼是一种人工合成的无机材料。自身拥有很多的性能，相应的应用上也有了越来越多的新技术新产品所需要。同时也推动了当代工业的生产水平。

蒸发镀膜可以***用的蒸发源有哪些类型?

1、电阻蒸发镀：电阻蒸发源用于蒸发低熔点材料，如金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等。电阻蒸发源一般***用钨、钼、钽制作。

2、激光蒸发源：优点：可以非常精确地控制蒸发过程，适用于敏感或复杂的材料。缺点：设备成本高，技术要求高。低温热蒸发源：优点：适用于低熔点、易挥发的材料。缺点：不适用于高熔点或稳定性强的材料。

3、最常用的蒸发源是电阻蒸发源和电子束蒸发源，特殊用途的蒸发源有高频感应加热、电弧加热、辐射加热、激光加热蒸发源等。（三）真空蒸镀工艺实例 以塑料金属化为例，真空蒸镀工艺包括：镀前处理、镀膜及后处理。

4、热蒸发镀膜机是一种专门用于将金属铝蒸发到玻璃表面形成镀铝膜的设备。它通过加热铝源使其升华成蒸汽，然后在真空环境下将蒸汽沉积到待镀物体表面，形成均匀、致密的铝膜。

真空镀膜的前处理流程是怎样的,谢谢

1、脱脂处理 用丙酮或酒精进行清洗 表面处理（必要时） 电晕（corona）放电处理，紫外线照射处理等。 底面涂布/硬化处理（必要时）为了得到精美的蒸镀膜，有时必须进行底面涂布处理。

2、普通真空镀膜（亦称真空蒸镀）时，工件夹固在真空罩内，当高温蒸发源通电加热后，促使待镀材料——蒸发料熔化蒸发。由于温升，蒸发料粒子获得一定动能，则沿着视线方向徐徐上升，最后附着于工件表面上堆积成膜。

3、零件清洗、擦拭干净，放入镀膜机，抽真空，开烘烤（如胶合件需不开烘烤，冷镀），到设定真空度预熔膜料，镀膜，降温。现在镀膜一般用晶控，膜系输入晶控后会自动转动，镀制。

4、真空镀膜工艺流程 表面处理：通常，镀膜之前，应对基材（镀件）进行除油、除尘等预处理，以保证镀件的整洁、干燥，避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。

5、事先需在真空室内对蒸发材料进行热处理，使之放出吸附气体——即“预熔”或“去气”过程。在“预熔”时要用活动挡板将蒸发源挡住，以防“预熔”过程中有蒸发材料到被镀到镀工件上。

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